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小型高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿(mǎn)足各種常見(jiàn)金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。

高真空電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

三源高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

5英寸近源有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐，它是研究新一代太陽(yáng)能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽(yáng)能電池。

多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對(duì)氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。

卷繞式高真空蒸發(fā)鍍膜儀可用于不同種類(lèi)的材料的薄膜生長(zhǎng)，大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物等