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高真空水冷熱蒸發(fā)鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發(fā)源，并且樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統(tǒng)的最大真空10E-5Pa，可有效提高涂層質量，并能滿足大多數(shù)蒸發(fā)涂層實驗所需的真空環(huán)境

多源真空蒸發(fā)鍍膜儀還適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍

本產品為桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀，設備安裝有兩套蒸發(fā)源，各蒸發(fā)源分別供電，可交替開啟也可同時開啟；每個蒸發(fā)源可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍

多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。

桌面型有機源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜。

高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。