簡單介紹：

多源真空蒸發(fā)鍍膜儀適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。

詳情介紹：

本設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計(jì)，腔體空間大，可拓展性強(qiáng)，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱及升降，所有操作均通過觸控屏集成控制。設(shè)備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng)，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗(yàn)提供清潔無油的高真空的環(huán)境；真空系統(tǒng)內(nèi)含有完善的氣動閥系統(tǒng)，用戶可通過觸控屏進(jìn)行一鍵式操作實(shí)現(xiàn)抽取真空、不停機(jī)取放樣、停機(jī)等操作。

本設(shè)備的蒸發(fā)源共兩組，采取鎢舟蒸發(fā)源，水冷式銅電極，可支持300A的大電流，加熱溫度可達(dá)1800℃，可實(shí)現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍。本設(shè)備采用一體化設(shè)計(jì)，腔體和電控部分左右分置，實(shí)現(xiàn)了水電分離。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計(jì)，真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨(dú)立操作，在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。

技術(shù)參數(shù):