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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層。
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實驗的觀察記錄。腔體上頂開式設(shè)計開啟方便，易于清理，十分適合實驗室使用。整機采用模塊化設(shè)計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手
非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。磁控濺射鍍膜儀將所有元件集成到一層立式機柜中，包括射頻電源、石英真空室、真空泵、再循環(huán)冷水機組和薄膜厚度監(jiān)控器等。
小型粉末PVD包覆磁控鍍膜儀系統(tǒng)是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。小型粉末PVD包覆系統(tǒng)粉末在振動樣品臺上振動翻滾，通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結(jié)構(gòu)。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等。
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