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真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。真空磁控濺射鍍膜儀廣泛應(yīng)用于科研院所、實(shí)驗(yàn)室制備單層或多層薄膜，以及新材料、新工藝研究。

可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺(tái)、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量、水冷卻及報(bào)警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。