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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
粉體包覆機(jī)磁控濺射鍍膜機(jī)是通過(guò)粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料。
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1“射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本效益的涂膜機(jī)?？筛鶕?jù)金屬薄膜沉積要求選擇直流磁控濺射，可配置3個(gè)直流、1個(gè)射頻/ 2個(gè)直流和2個(gè)射頻/ 1個(gè)直流濺射頭。
本設(shè)備為桌面型靶下置型磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點(diǎn)。真空腔體整體采用下置靶設(shè)計(jì)，濺射效果好，雜質(zhì)污染少，能*大限度的保護(hù)樣品。
本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機(jī)構(gòu)，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺(tái)的功能型。設(shè)備外形為桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求，用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射，非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀配有一個(gè)直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)
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