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該設備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。電子束蒸發(fā)鍍膜儀不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。電子束蒸發(fā)鍍膜機可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。

激光鍍膜儀系統(tǒng)由真空腔室（主濺射室、進樣室）、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。激光鍍膜設備廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

PLD脈沖激光濺射鍍膜儀系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點、多元素及含有氣體元素的復雜層狀超晶格薄膜材料。

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜