真空室  

500×500×600mm2  

真空系統(tǒng)配置  

復合分子泵、機械泵、閘板閥  

極限壓力  

≤6. 67×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后）；  

恢復真空時間  

45分鐘可達到6. 67×10-4Pa (系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥 氮氣后）  

電子束  

蒸發(fā)源  

e型電子槍  

陽極電壓：6kv、8kv;  

數(shù)量（套）  

1  

坩堝  

水冷式坩堝，四穴設計，每個容量11ml  

功率  

0一6 KW可調(diào)  

電阻蒸發(fā)源 (可選）  

電壓  

5、10V  

功率  

電流300A，*大輸出功率3KW  

數(shù)量  

1套，可切換  

水冷電極  

3根，組成2個蒸發(fā)舟  

工件架類型及尺寸  

基片尺寸：可放置4"基片，加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續(xù)回轉，轉速5~60轉/分 基片與蒸發(fā)源之間距離300~350mm可調(diào)，手動控制樣品擋板組件1套  

氣路系統(tǒng)  

200SCCM質(zhì)量流量控制器1路  

石英晶振膜厚控制儀  

監(jiān)測膜厚顯示范圍：0~99 u 9999A;  

設備占地面積  

主機  

900×800mm2  

電控柜  

800×800mm2 (兩個）