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離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀
簡要描述:

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-EVP500-EB
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-16
  • 訪  問  量:227

詳細(xì)介紹

品牌CYKY價(jià)格區(qū)間10萬-30萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。  

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù):  


使用條件  

環(huán)境溫度  

5℃~40℃  

電源  

380V  

功率  

≤20KW  

水壓  

≤2.5bar  

真空室尺寸  

蒸發(fā)室尺寸  

φ500×H500(㎜)  

過渡倉庫  

φ280×H300(㎜)  

電子槍  

新型電子槍1套,6穴坩堝  

離子源  

考夫曼離子源K08一套  

樣品轉(zhuǎn)盤  

樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉(zhuǎn),也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃  

系統(tǒng)真空度  

極限真空  

經(jīng)12~24小時(shí)烘烤,連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa  

 

抽氣速率  

從大氣開始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa  

 

系統(tǒng)漏率  

整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后,測(cè)量真空室真空度≤10Pa  

抽真空系統(tǒng)  

TY1200分子泵+機(jī)械泵(VRD-30)系統(tǒng),并設(shè)置旁路抽氣  

鍍膜監(jiān)測(cè)  

采用TM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)  

鍍膜厚度的不均勻度  

≤3%  

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀

 


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