簡單介紹：

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

用于制造各種光學(xué)元件上的增透膜、反射膜、濾光膜等。如在鏡片上鍍制增透膜可減少反射光，增加透光率，提高成像質(zhì)量；在激光反射鏡上鍍制高反射率膜，能有效提高激光的反射效率。

在新材料的研發(fā)過程中，可利用離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀制備各種新型薄膜材料，研究其物理、化學(xué)和光學(xué)等性能，為新材料的開發(fā)和應(yīng)用提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)支持。

該儀器可用于研究材料的表面改性、界面特性等表面科學(xué)問題。通過控制鍍膜工藝參數(shù)，制備不同結(jié)構(gòu)和性能的薄膜，深入了解材料表面與薄膜之間的相互作用，為表面工程技術(shù)的發(fā)展提供理論依據(jù)。

技術(shù)參數(shù)：