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  • CY-MSV325-II-DCDC-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀

    雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備

    更新日期:2025-11-17
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • CY-MSZ210-I I -DCDC-SS桌面型雙靶磁控鍍膜儀

    桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì),在保留高真空不銹鋼腔體的同時(shí),精簡了其他機(jī)構(gòu),將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源一個(gè)射頻電源,直流靶可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射,射頻電源可用于各種非金屬和金屬氧化物等的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用全進(jìn)口真空泵,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。

    更新日期:2025-11-17
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • CY-MSH325- I-DC-SS大功率直流磁控濺射鍍膜儀

    大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺(tái)式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ,帶有一個(gè)水冷2英寸靶頭,冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆直徑達(dá)4英寸的所有金屬薄膜, 包括Zn、Al、Ti和碳光膜,價(jià)格合理。包含一個(gè)Al 目標(biāo)以供立即使用。

    更新日期:2025-11-17
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • CY-MSH270-I-RF-Q單靶磁控濺射鍍膜儀

    本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時(shí),可根據(jù)需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。

    更新日期:2025-11-17
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • CY-MSH300-III-DCDCRF-SS三靶磁控濺射鍍膜儀

    三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

    更新日期:2025-11-17
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • CY-MSH500- II-DCRF-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀

    雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。與同類設(shè)備相比,這款磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛,切體積小便于操作,是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。

    更新日期:2025-11-17
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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