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本設備為桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非金屬或其他非導電材料鍍膜。

雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備

UPS三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體膜，陶瓷膜，介電膜，光學膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 與同類設備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡便的優(yōu)點，是實驗室制備材料膜的理想設備。

磁控濺射真空蒸發(fā)復合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發(fā)技術結合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設備的用途和靈活性。該設備應用于手機殼等塑料表面金屬化，應用于不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。

桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)高質量、均勻的薄膜沉積

雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備