磁控濺射真空蒸發(fā)復合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。  

磁控濺射真空蒸發(fā)復合型鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，高效磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好；該機實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復合膜層、透明（半透明）膜、不導電膜、電磁屏蔽膜等。  

磁控濺射/真空蒸發(fā)復合型鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù)：