1200℃高真空CVD氣相沉積系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時有過熱和斷偶保護功能。爐管兩側法蘭配有數字式真空計和機械式壓力表，可以用來控制路管內的氣氛環(huán)境。同時1200℃單溫區(qū)3路質量供氣高真空CVD系統(tǒng)管式爐采用高清真彩觸控屏操作，簡單易上手，即使是非專業(yè)人員經過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法，能夠極大的提高您的實驗效率。

1200℃高真空CVD氣相沉積系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時有過熱和斷偶保護功能。爐管兩側法蘭配有數字式真空計和機械式壓力表，可以用來控制路管內的氣氛環(huán)境。同時1200℃單溫區(qū)3路質量供氣高真空CVD系統(tǒng)管式爐采用高清真彩觸控屏操作，簡單易上手，即使是非專業(yè)人員經過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法，能夠極大的提高您的實驗效率。  

      系統(tǒng)所配有的三路質量流量計，精度高可靠性強，可以混合1-3路氣體，操作面板采用數字顯示，直觀高效，若客戶有特殊需要也可以聯系技術人員定制任意數量的氣路。   

適用范圍： 

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質量檢測等，尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實驗。  

技術參數：  

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