1200℃單溫區(qū)高真空CVD氣相沉積系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計(jì)和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行PID控溫，可編輯30段升降溫程序，同時(shí)有過熱和斷偶保護(hù)功能。爐管兩側(cè)法蘭配有數(shù)字式真空計(jì)和機(jī)械式壓力表，可以用來控制路爐管內(nèi)的氣氛環(huán)境。同時(shí)1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)管式爐采用高清真彩觸控屏操作，簡單易上手，即使是非專業(yè)人員經(jīng)過簡單的培訓(xùn)也可以熟練掌握儀器的使用方法，能夠極大的提高您的實(shí)驗(yàn)效率。

1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)系統(tǒng)所配有的三路浮子流量計(jì)，可以混合1~3路氣體，較為準(zhǔn)確的配制出實(shí)驗(yàn)所需的混合氣體；另有一壓力表安裝在浮子流量計(jì)正面，可以監(jiān)測氣體壓力及混合槽壓力。  

本系統(tǒng)還配有精密分子泵組，可以達(dá)到1.0E-3pa真空度，較普通機(jī)械泵可以為用戶提供更純凈嚴(yán)苛的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。  

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測等，尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實(shí)驗(yàn)。  

1200℃單溫區(qū)高真空CVD氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：  

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