單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng)用于制備石墨烯，是一種 “低溫、直接生長" 的技術(shù)。它尤其適合在非金屬基底（如絕緣襯底）上生長石墨烯，避免了從金屬催化劑轉(zhuǎn)移的復(fù)雜過程

產(chǎn)品型號：CY-PECVD-50R-1200-Q
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-11-17
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單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng)，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預(yù)留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率將粉料送入爐管，投料速率可通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速來更改?？蓪崿F(xiàn)在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用PECVD方法進行包裹和修飾。收料罐可以在氣氛保護環(huán)境下對處理好的料粉進行收集。

設(shè)備配有100W頻率13.56MHz的視頻電源。能夠在真空中產(chǎn)生等離子體。高能等離子體能夠活化樣品表面，有效的增強反應(yīng)效果，提高反應(yīng)速率，這種輔助方法廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學(xué)實驗上。

本設(shè)備特別適合顆粒型樣品實驗，通過機械傳動能夠控制工作管360°不間斷連續(xù)旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)，使得管內(nèi)物料不斷的被攪拌混合，充分與氣體和等離子體接觸，使樣品的反應(yīng)更加均勻穩(wěn)定。

單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：

射頻電源	輸出功率	150W
	輸出精度	±1%
	射頻頻率	13.56MHz
	射頻穩(wěn)定度	±0.005%
	冷卻方式	風(fēng)冷
1200℃單溫區(qū)管式爐	供電電壓	AC220V，50Hz
	*大功率	2KW
	加熱溫區(qū)	單個溫區(qū)200mm
	工作溫度	*高1200℃，連續(xù)運行溫度應(yīng)≤1100℃
	控溫精度	±1℃
	控溫方式	AI-PID 30段工藝曲線，可存儲多條三溫區(qū)獨立控制，帶有過熱和斷偶保護
	爐管材質(zhì)	高純石英
	爐管尺寸	φ50x800mm
	密封方式	真空不銹鋼法蘭、KF16法蘭
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	0-20rpm
	傾斜角度	0-15°
	真空泵	旋片機械泵
	極限真空度	1.0E-1Pa
	進料方式	真空漏斗加螺桿進料

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單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng)用于制備石墨烯，是一種 “低溫、直接生長" 的技術(shù)。它尤其適合在非金屬基底（如絕緣襯底）上生長石墨烯，避免了從金屬催化劑轉(zhuǎn)移的復(fù)雜過程

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