桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實(shí)驗(yàn)室真空PVD鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

以下是單靶磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：

1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備

應(yīng)用場(chǎng)景：某高校光學(xué)實(shí)驗(yàn)室利用Au靶（金靶）在玻璃基片上沉積納米級(jí)金薄膜，用于表面等離子體共振（SPR）傳感器研究。優(yōu)勢(shì)：

膜厚可控（10~200nm），均勻性高（±3%），確保光學(xué)性能穩(wěn)定。

真空環(huán)境避免氧化，獲得高純度納米金膜。

2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜（ITO）鍍膜

應(yīng)用場(chǎng)景：柔性電子企業(yè)使用ITO靶（氧化銦錫）在PET塑料基材上鍍制透明導(dǎo)電層，用于觸摸屏電極。優(yōu)勢(shì)：

低功率濺射（RF模式）避免基材熱損傷，膜層電阻≤100 Ω/sq。

桌面型設(shè)備節(jié)省空間，適合小批量試產(chǎn)。

3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層（TiN）

應(yīng)用場(chǎng)景：機(jī)械加工實(shí)驗(yàn)室在高速鋼刀具表面鍍TiN（氮化鈦）涂層，提升耐磨性。工藝要點(diǎn)：

通入氮?dú)夥磻?yīng)濺射，形成金黃色TiN膜，硬度達(dá)2000 HV。

基片加熱至300°C，增強(qiáng)膜基結(jié)合力。

桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：