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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >    >  磁控濺射鍍膜儀  >  CY-MSH270-I-RF-Q分體式單靶磁控鍍膜儀

分體式單靶磁控鍍膜儀
簡(jiǎn)要描述:

本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH270-I-RF-Q
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-17
  • 訪  問(wèn)  量:157

詳細(xì)介紹

品牌CYKY價(jià)格區(qū)間10萬(wàn)-30萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件

            本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過(guò)程全向可視,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄,腔體設(shè)計(jì)開(kāi)啟方便,易于清理,十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),操作邏輯簡(jiǎn)單,操作界面直觀,利于上手。
設(shè)備的真空獲得系統(tǒng)采用兩級(jí)真空泵組,前級(jí)泵為大抽速機(jī)械泵,有效縮從常壓至低真空的時(shí)間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。

分體式單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):


項(xiàng)目

明細(xì)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSH270-I-RF-Q

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

3KW

系統(tǒng)真空

≦5×10-4Pa

樣品臺(tái)

尺寸

150mm

加熱溫度

≤500℃

旋轉(zhuǎn)速度

1-20r/min

控溫精度

±1℃

磁控濺射頭

數(shù)量

2英寸 x1

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

φ270mm X 200mm

觀察窗口

全向可視

開(kāi)啟方式

頂蓋拆卸式

腔體材料

高純石英

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

CY240

抽氣接口

KF16

抽氣速率

1.1L/s

分子泵

CY600

抽氣接口

KF40

抽氣速率

600L/s

排氣接口

KF40

真空測(cè)量

電阻規(guī)+電離規(guī)

供電電源

AC;220V 50/60Hz

氣體控制

1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

膜厚測(cè)量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

控制系統(tǒng)

CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)

電源配置

直流電源數(shù)量

1臺(tái)

輸出功率

≤500W

輸出電壓

≤600V

響應(yīng)時(shí)間

<5ms

射頻電源數(shù)量

1臺(tái)

輸出功率

≤1000W

功率穩(wěn)定度

≤5W

測(cè)量精度

±0.5%

測(cè)量速度

100~1000ms

測(cè)量上限

50000




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