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雙靶磁控濺射鍍膜儀
簡(jiǎn)要描述:

雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH300-II-RF?DC-SS
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-17
  • 訪  問  量:175

詳細(xì)介紹

品牌CYKY價(jià)格區(qū)間10萬-30萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。與同類設(shè)備相比,這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛,且體積小便于操作,是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。

技術(shù)參數(shù):


項(xiàng)目  

明細(xì)  

產(chǎn)品型號(hào)
CY-MSH300-II-RFDC-SS

供電電壓  

AC220V50Hz  

整機(jī)功率  

3KW  

極限真空度  

10-6torr  

載樣臺(tái)參數(shù)  

 

 

 

尺寸  

φ140mm  

加熱溫度  

*高500  

控溫精度  

±1  

轉(zhuǎn)速  

1-20rpm可調(diào)  

磁控濺射頭參數(shù)  

 

 

數(shù)量  

2個(gè)2"磁控濺射頭  

冷卻方式  

水冷,所需流速10L/min  

水冷機(jī)規(guī)格  

16L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)  

真空腔體  

 

 

 

腔體尺寸  

φ300mm X 300mm H  

腔體材料  

不銹鋼  

觀察窗口  

φ100mm  

開啟方式  

上頂開式,便于更換靶材  

氣體流量控制器  

4路分別通N2,ArO2,空氣;量程均為0-500sccm  

真空泵  

配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S  

膜厚儀  

石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ?  

濺射電源  

直流電源一臺(tái),500W,適用于制備金屬膜  

射頻電源一臺(tái),300W,適用于非金屬鍍膜  

操作方式  

面板按鈕操作  

整機(jī)尺寸  

1400mm X 750mm X 1300mm  

整機(jī)重量  

300kg  



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