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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >    >  PECVD氣相沉積系統(tǒng)  >  CY-PECVD-500T-SSPECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
簡(jiǎn)要描述:

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程,有效提升反應(yīng)速度,降低反應(yīng)溫度

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-PECVD-500T-SS
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-16
  • 訪  問(wèn)  量:256

詳細(xì)介紹

品牌CYKY

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù),能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程,有效提升反應(yīng)速度,降低反應(yīng)溫度。適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件,可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

PECVD化學(xué)氣相沉積技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-PECVD-500T-SS

供電電源

AC220V 50Hz

射頻電源

信號(hào)頻率

13.56MHz

功率輸出范圍

0~300W

*大反射功率

100W

反射功率 (在*大功率時(shí))

<5W

功率穩(wěn)定性

±0.1%

工作腔體

加熱溫度

RT-400℃

溫控精度

±1℃

樣品臺(tái)尺寸

Φ200mm

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

1-20rpm 可調(diào)

噴頭尺寸

Φ200mm

距離

噴頭與樣品之間的距離40-100mm連續(xù)可調(diào)

沉積工作真空

0. 133- 133Pa (可根據(jù)工藝調(diào)整)

法蘭

上翻蓋設(shè)計(jì),基材易更換,并有可視窗口

腔體

不銹鋼材質(zhì), Φ500mm * 500mm

觀察窗

Φ40mm

供氣系統(tǒng)

通道數(shù)

定制

測(cè)量單位

質(zhì)量流量計(jì)

測(cè)量范圍

A 通道: 0200SCCM for H2  

B 通道: 0200SCCM for CH4

C 通道: 0200SCCM for C2H4

D通道: 0500SCCM for N2

E通道: 0500SCCM for NH3

F通道: 0500SCCM for Ar

測(cè)量精度

±1.5%F.S

工作壓差

-0.15Mpa~0.15Mpa

連接管材質(zhì)

304 不銹鋼

氣路

304 不銹鋼針閥

進(jìn)氣和出氣接口規(guī)格

1/4" 卡套接頭

真空系統(tǒng)

前級(jí)泵抽速

4.7L/s

分子泵抽速

60L/s

真空測(cè)量

復(fù)合真空計(jì), 范圍10-5Pa ~   105Pa

真空度

5.0*10-3Pa

水冷機(jī)

冷卻水溫度

37

水流速

10L/min

功率

0.1KW

冷卻功率

50W/℃

空壓機(jī)

OTS-550

產(chǎn)品尺寸

1362*736*1434

產(chǎn)品重量

280公斤


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