離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等

產(chǎn)品分類CLASSIFICATION

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詳細介紹

品牌	CYKY	價格區(qū)間	30萬-50萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。

磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。

本型號采用靶下置布局，樣品臺在上方，與靶面高度可通過程序**可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱，性能優(yōu)異。

磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價值：

1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備

2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜（ITO）鍍膜

3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層（TiN）

4. 教學(xué)演示——磁控濺射原理實驗

離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱		雙靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號		CY-MSH500X-II-DCRF-SS
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
極限真空度		5x10-4Pa
樣品臺	尺寸	150mm
	高度	上下70mm**可調(diào)
	加熱溫度	≤850℃
	轉(zhuǎn)速	1-20rpm
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	4個2"磁控濺射頭
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機
真空腔體	腔體尺寸	φ500mm X550mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	前開門式
氣體流量控制器		1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar；
真空泵		配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速1200L/S
膜厚儀		石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
濺射電源		直流電源2臺，500W，適用于制備金屬膜射頻電源2臺，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式		CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)
整機尺寸		1250mm X 1000mm X2000mm
整機重量		500kg

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