臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀是專(zhuān)為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直流磁控濺射選項(xiàng)可根據(jù)要求提供金屬薄膜沉積，實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流、一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置.

相較于單靶設(shè)備，三靶磁控濺射鍍膜儀在保持緊湊設(shè)計(jì)的同時(shí)，大幅提升了功能性和效率，尤其適合多材料復(fù)合鍍膜和高效科研/小規(guī)模生產(chǎn)。以下是其核心優(yōu)點(diǎn)：

1. 一機(jī)多能，高效復(fù)合鍍膜

• 三靶位設(shè)計(jì)：可同時(shí)裝載不同靶材（如金屬、氧化物、氮化物），無(wú)需破真空即可切換，實(shí)現(xiàn)多層膜/復(fù)合膜（如Au/TiN/ITO）的連續(xù)沉積。

• 應(yīng)用擴(kuò)展：滿足梯度薄膜、異質(zhì)結(jié)器件（如太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體器件）的研發(fā)需求。

2. 節(jié)省時(shí)間與成本

• 減少換靶次數(shù)：傳統(tǒng)單靶設(shè)備需反復(fù)抽真空換靶，三靶儀可一次完成多材料鍍膜，效率提升50%以上。

• 靶材利用率高：磁控濺射靶材損耗低，降低實(shí)驗(yàn)耗材成本。

3. 鍍膜均勻性與可控性更優(yōu)

• 獨(dú)立靶材控制：每個(gè)靶位可單獨(dú)調(diào)節(jié)功率、氣體流量，精準(zhǔn)控制各層膜厚和成分（如調(diào)節(jié)Al?O?的氧含量）。

• 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)（可選）：提升膜層均勻性（±2%），適合光學(xué)涂層等高性能需求。

4. 緊湊設(shè)計(jì)，實(shí)驗(yàn)室友好

• 臺(tái)式體積：占地不足1㎡，兼容手套箱或小型潔凈臺(tái)，適合空間受限的實(shí)驗(yàn)室。

• 模塊化結(jié)構(gòu)：靶位和真空腔體易于拆卸維護(hù)，升級(jí)靈活（如加裝離子源、加熱基臺(tái)）。

5. 廣泛的應(yīng)用兼容性

• 科研領(lǐng)域：納米多層膜、超硬涂層（TiAlN）、透明導(dǎo)電膜（ITO/Ag/ITO）。

• 工業(yè)試產(chǎn)：小型電子元件（MEMS、傳感器）、裝飾鍍膜（仿金、仿鉻）。

• 教學(xué)實(shí)訓(xùn)：直觀展示多材料濺射工藝，培養(yǎng)薄膜技術(shù)人才。

臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：