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產(chǎn)品型號(hào)：CY-MSH325-III-DCDCRF-ZD廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-11-16訪 問(wèn) 量：186產(chǎn)品分類(lèi)CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | CYKY |
|---|
磁控濺射鍍膜儀帶振動(dòng)樣品臺(tái)為我公司研發(fā)的配有三個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。
設(shè)備配有變頻振動(dòng)的震動(dòng)型樣品臺(tái)，可以將放置在上面的粉末或者顆粒不規(guī)則的翻動(dòng)，以確保在鍍膜過(guò)程中所有的顆粒的表面能包覆上鍍層，避免鍍膜不勻的情況，是專(zhuān)為顆粒型樣品所設(shè)計(jì)的PVD設(shè)備。
磁控濺射鍍膜儀帶振動(dòng)樣品臺(tái)技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 6KW | |
極限真空度 | 5x10-4Pa | |
載樣臺(tái)參數(shù) | 尺寸 | φ150mm |
振動(dòng)方式 | 變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)齒輪 | |
磁控濺射頭參數(shù) | 數(shù)量 | 斜置3個(gè)2"磁控濺射頭 與垂直方向夾角15° |
冷卻方式 | 水冷，所需流速10L/min | |
水冷機(jī)規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ300mm X 340mm H |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
觀察窗口 | φ100mm | |
開(kāi)啟方式 | 上頂開(kāi)式，便于更換靶材 | |
氣體流量控制器 | 1路200sccm Ar； | |
真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S | |
膜厚儀 | 石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10? | |
濺射電源 | 直流電源2臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜 | |
操作方式 | 一體機(jī)電腦操作 | |
整機(jī)尺寸 | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
整機(jī)重量 | 350kg | |
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