桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積

產(chǎn)品型號：CY-MSZ254-I-DC-SS
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-11-16
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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價格區(qū)間	5萬-10萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣
真空腔體	直徑≦100mm的平面樣品均可	樣品臺尺寸	直徑≦100mm的平面樣品均可
磁控靶	普通永磁靶，可調(diào)角度	靶材尺寸	直徑2英寸，厚度≦3mm,
濺射功率	300W

桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過磁場增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積

本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄；腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號	CY-MSZ254-I-DC-SS
樣品臺	外形尺寸	φ100mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	≦20rpm
磁控靶槍	配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ254mm X 300mm
	觀察窗口	前置式
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	上蓋拆卸式與前開啟式
真空系統(tǒng)	前級泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測量	復(fù)合真空計(jì)，量程:10^-5~10⁵Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統(tǒng)真空	1.0×10^-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數(shù)量	直流電源一套
電源配置	輸出功率	直流電源300W
其他參數(shù)	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機(jī)功率	2kW
	整機(jī)尺寸	550mm X 350mm X450mm

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