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高真空多弧離子鍍膜儀
簡要描述:

CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀,制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應薄膜

  • 產(chǎn)品型號:CY- MIOP500
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:244

詳細介紹

品牌CYKY價格區(qū)間1-5萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀,利用電弧放電將導電材料離子化,利用其繞射性好的優(yōu)勢,產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上(特別是泡沫鎳等多孔基底),制備納米級薄膜鍍層或納米顆粒。主要由鍍膜室、多弧靶、多弧電源、脈沖偏壓電源、樣品臺、加熱、真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏半自動控制系統(tǒng)等組成;該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。該系列設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產(chǎn)品等,深受廣大用戶好評。  

高真空多弧離子鍍膜儀

 

高真空多弧離子鍍膜儀主要用途:

制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應薄膜。  

多弧離子鍍膜儀技術(shù)參數(shù):  

 

1.真空腔室  

Ф500×H420mm,304 上等不銹鋼,前開門結(jié)構(gòu); 腔室加熱溫度:室溫~350±1℃;  

2.真空系統(tǒng)  

復合分子泵+直聯(lián)旋片泵+高真空閥門組合的高真空系統(tǒng),數(shù)顯復合真空計;  

3.真空極限  

優(yōu)于 6.0×10-5Pa(空載,經(jīng)烘烤除氣后);  

4.漏率  

設備升壓率≤0.8Pa/h;  

設備保壓:停泵 12 小時候后,真空≤10Pa;  

5.抽速  

(空載)從大氣抽至 5.0×10-3Pa≤15min;  

6.基片臺尺寸  

Φ150mm,自轉(zhuǎn)工位 3 個;  

7.基片臺旋轉(zhuǎn)  

基片旋轉(zhuǎn):0~20 轉(zhuǎn)/分鐘;  

8.濺射靶  

DN100 新型磁過濾多弧靶 2 套  

9.脈沖偏壓電源  

-1000V,1 套;  

11.控制方式  

PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統(tǒng);  

12.報警及保護  

對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執(zhí)行相應保護措施;完善 的邏輯程序互鎖保護系統(tǒng);  

13.占地  

(主機)L1900×W800×H1900(mm)。  


       

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