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桌面型單靶磁控鍍膜儀
簡要描述:

本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經(jīng)過小型化設計,將設備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,能夠用于濺射金屬材料,具有速度快溫升低等特點。

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ180-I-DC-Q
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-11-17
  • 訪  問  量:236

詳細介紹

品牌CYKY價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天

本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經(jīng)過小型化設計,將設備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,能夠用于濺射金屬材料,具有速度快溫升低等特點。

磁控鍍膜儀典型應用:

•    科研領域:納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。

•    電子行業(yè):半導體、傳感器、導電薄膜制備。

•    教學演示:材料科學、真空技術實驗教學。

•    以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例,涵蓋科研、工業(yè)及教學領域,體現(xiàn)其多功能性和廣泛應用價值:



技術規(guī)格:  

 

桌面型單靶磁控鍍膜儀  

產(chǎn)品型號  

CY-MSZ180-I-DC-Q  

樣品臺  

尺寸  

φ100mm  

加熱  

*高500  

轉(zhuǎn)速  

0-20可調(diào)  

磁控濺射靶  

數(shù)量  

2" x1  

真空腔體  

腔體尺寸  

φ180mm X   215mm  

觀察窗口  

全向透明  

腔體材料  

高純石英  

開啟方式  

上蓋拆卸式  

真空系統(tǒng)  

機械泵  

旋片泵  

分子泵  

渦輪分子泵  

真空測量  

電阻規(guī)+電離規(guī)  

抽氣接口  

KF16  

抽氣接口  

KF40  

排氣接口  

KF16  

極限真空  

1.0E-4Pa  

供電電源  

AC 220V 50/60Hz  

抽氣速率  

機械泵1.1L/s    分子泵600L/s  

電源配置  

數(shù)量  

直流電源 x1  

*大輸出功率  

直流電源300W  

 

其他  

供電電壓  

AC220V,50Hz  

整機功率  

2kW  

整機尺寸  

550mm X 350mm   X400mm  


  




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