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半導(dǎo)體鍍膜磁控濺射儀
簡要描述:

CY-PLZ180-I-DC-Q 半導(dǎo)體鍍膜磁控濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-PLZ180-I-DC-Q
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-16
  • 訪  問  量:390

詳細(xì)介紹

品牌CYKY濺射氣體氬氣
樣品臺(tái)尺寸150mm控制方式PIC
樣品倉尺寸300mm靶材尺寸2mm
靶材材質(zhì)金屬價(jià)格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

CY-PLZ180-I-DC-Q 半導(dǎo)體鍍膜磁控濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

單靶等離子濺射鍍膜儀(增強(qiáng)型)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-PLZ180-I-DC-Q

樣 品 臺(tái)

尺寸

100mm

旋轉(zhuǎn)速度

1~20rpm可調(diào)

加熱溫度

500          

控溫精度

±1   PID控溫

等離子濺射靶

數(shù)量

2英寸x1

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm X 300mm    

觀察窗口

全向可視

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

上下蓋材質(zhì)

304不銹鋼

抽氣接口

KF25

進(jìn)氣接口

1/4英寸卡套接頭

電源配置

數(shù)量

直流電源x1

輸出功率

*大150W

濺射電源

3000V

*大濺射電流

50mA

真空系統(tǒng)

真空泵類型

雙極旋片真空泵

抽氣接口

KF25

排氣接口

KF16

抽氣速率

1.1L/s4m3/h

極限真空度

1Pa

真空測(cè)量

電阻真空規(guī)

其他

供電電源

AC 220V  50Hz

整機(jī)功率

2kW

整機(jī)尺寸

570mm X 450mm X550mm

整機(jī)重量

30kg

 

 

 

 

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