雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2"目標(biāo)源，例如，一個(gè)直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個(gè)射頻源用于涂覆非金屬材料。高真空磁控等離子濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆單層或多層薄膜，適用于各種材料，如合金、鐵電、半導(dǎo)體、陶瓷、電介質(zhì)、光學(xué)、聚四氟乙烯等。

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點(diǎn)：  

1、配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡(jiǎn)便。  

磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：

1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備

2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜（ITO）鍍膜

3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層（TiN）

4. 教學(xué)演示——磁控濺射原理實(shí)驗(yàn)

高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：  

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