雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)計(jì)，DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）的樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。

詳情介紹：

雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（直流+射頻)雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，設(shè)備配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。

磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)：