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當前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > > 磁控濺射鍍膜儀 > CY-MSV325-II-DCFR-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號：CY-MSV325-II-DCFR-SS廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-11-16訪 問 量：283產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 1-5萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬 |
雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求；儀器標配的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
雙靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù)：
| 項目 | 明細 | |
| 產(chǎn)品型號 | CY-MSV325-II-DCFR-SS | |
| 供電電壓 | AC220V，50Hz | |
| 整機功率 | 6KW | |
| 系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
| 樣品臺 | 外形尺寸 | φ150mm |
| 加熱溫度 | ≦600℃ | |
| 控溫精度 | ±1℃ | |
| 可調(diào)轉速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
| 冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
| 水流大小 | 不小于10L/Min | |
| 數(shù)量 | 2 | |
| 真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm，高度500mm |
| 腔體材質 | SUU304不銹鋼 | |
| 觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
| 開啟方式 | 頂開式 | |
| 氣體控制 | 1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
| 真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S | |
| 膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
| 濺射電源 | 配直流電源,功率500W，射頻500W | |
| 控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
| 設備尺寸 | 540mm×540mm×1000mm | |
| 設備重量 | 350kg | |
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