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桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀
簡要描述:

桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀是一種物理氣相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),通過磁場增強(qiáng)離子化效率,從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積

  • 產(chǎn)品型號:CY-MSZ194-I-DC-SS
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-16
  • 訪  問  量:285

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣
真空腔體直徑≦100mm的平面樣品均可樣品臺尺寸直徑≦100mm的平面樣品均可
磁控靶普通永磁靶,可調(diào)角度靶材尺寸直徑2英寸,厚度≦3mm,
濺射功率濺射功率

本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄;腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

磁控濺射鍍膜儀

磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

桌面型不銹鋼腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSZ194-I-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

加熱溫度

≦500℃

可調(diào)轉(zhuǎn)速

≦20rpm

磁控靶槍

配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ194mm X 263mm

觀察窗口

φ50mm

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

上蓋開啟式            

真空系統(tǒng)

前級泵

低噪音雙極旋片泵

分子泵

低噪音大抽速渦輪分子泵

真空測量

復(fù)合真空計(jì),量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF16

抽氣接口

KF40

排氣接口

KF16

系統(tǒng)真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵抽速60L/s,前級泵抽速1.1L/s 

電源配置

電源數(shù)量

直流電源一套

輸出功率

直流電源500W

其他參數(shù)

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

2kW

重量

80kg

整機(jī)尺寸

550mm X 450mm X750mm


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