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RTP快速退火爐柜式是一種用于半導體制造和材料處理的設備,RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控,RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
晶圓RTP退火爐柜式是一種用于半導體制造和材料處理的設備,RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控,RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
智能型滑動式快速退火爐可搭配石英管、剛玉管使用,實現(xiàn)多種實驗功能。如用于CVD法制備石墨烯;還可廣泛用于各種反應溫度在25~1600℃左右的各種CVD實驗、真空燒結(jié)、氣氛保護燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備等多個研究領域。
高真空RTP快速退火爐由我公司自主研發(fā)的功能強大的加熱設備。該產(chǎn)品采用進口紅外線加熱管加熱,造型新穎結(jié)構(gòu)合理,爐體和爐管可以自由滑動,可實現(xiàn)快速升降溫
1200℃真空RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐,采用革新的加熱技術,可實現(xiàn)真正的基底溫度測量,不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償,溫度控制**,溫度重復性高,客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊,是半導體制程退火工藝的理想選擇
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