全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)子流量計能夠準確控制系統(tǒng)的供氣；全自動CVD滑軌爐真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。

全自動CVD滑軌爐氣相沉積系統(tǒng)操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。  

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火，尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。  

全自動CVD滑軌爐技術(shù)參數(shù)：  

免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，會造成所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。