1200℃雙溫區(qū)CVD化學氣相沉積設備由雙溫區(qū)管式爐、三路質量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度，該管式爐可以在加熱區(qū)內(nèi)形成兩段溫度梯度或是形成較長的恒溫區(qū)域。每個溫區(qū)均可編輯30段升降溫程序，同時有過熱和斷偶保護功能。1200℃雙溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)爐管兩側法蘭配有數(shù)字式真空計和機械式壓力表，可以用來控制爐管內(nèi)的氣氛環(huán)境。

1200雙溫區(qū)3路質量供氣低真空CVD系統(tǒng)同時管式爐采用高清真彩觸控屏操作，簡單易上手，即使是非專業(yè)人員經(jīng)過簡單的培訓也可以熟練掌握儀器的使用方法，能夠極大的提高您的實驗效率。  

系統(tǒng)所配有的三路質量流量計，精度高可靠性強，可以準確混合1~3路氣體，操作面板采用數(shù)字顯示，直觀高效。若客戶有特殊需要也可聯(lián)系技術人員定制任意數(shù)量的氣路。 

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫燒結、金屬退火、質量檢測等，尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實驗。 

1200℃雙溫區(qū)CVD化學氣相沉積設備技術參數(shù)：  

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