1500℃半導(dǎo)體薄膜CVD氣相沉積系統(tǒng)管式爐采用高清真彩觸控屏操作，簡(jiǎn)單易上手，即使是非專業(yè)人員經(jīng)過簡(jiǎn)單的培訓(xùn)也可以熟練掌握儀器的使用方法，能夠極大的提高您的實(shí)驗(yàn)效率。  

爐管采用高純氧化鋁制成，爐體采用一體式設(shè)計(jì)，的設(shè)計(jì)能夠保證系統(tǒng)在1500℃運(yùn)行穩(wěn)定**，加熱元件采用高品質(zhì)硅碳棒，能夠達(dá)到1500℃高溫，若客戶有需求可以定制硅鉬棒加熱元件以達(dá)到更高的1700℃高溫。 

系統(tǒng)所配有的三路浮子流量計(jì)，可以混合1~3路氣體，較為準(zhǔn)確的配制出實(shí)驗(yàn)所需的混合氣體；另有一壓力表安裝在浮子流量計(jì)正面，可以監(jiān)測(cè)氣體壓力及混合槽壓力。 

適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測(cè)等，尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實(shí)驗(yàn)。  

1500℃半導(dǎo)體薄膜CVD氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：  

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