等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍膜儀，可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。設(shè)備主要由石英真空室、等離子濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進(jìn)氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。設(shè)備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。真空室采用上中下結(jié)構(gòu)，樣品臺與靶的距離靈活可調(diào)。設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用上等雙極旋片泵。 具有體積小，噪音小，無油污污染等優(yōu)點。真空腔體采用石英加工而成，呈現(xiàn)圓柱結(jié)構(gòu)，外形美觀，大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效鍍膜質(zhì)量。

本產(chǎn)品為二合一鍍膜儀，可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。設(shè)備主要由石英真空室、等離子濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進(jìn)氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。
設(shè)備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。真空室采用上中下結(jié)構(gòu)，樣品臺與靶的距離靈活可調(diào)。
設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用上等雙極旋片泵。 具有體積小，噪音小，無油污污染等優(yōu)點。
真空腔體采用石英加工而成，呈現(xiàn)圓柱結(jié)構(gòu)，外形美觀，大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效鍍膜質(zhì)量。
等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：