實(shí)驗(yàn)室多弧離子鍍鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來，不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等優(yōu)點(diǎn)。十分適合鍍硬質(zhì)保護(hù)膜如TiN等。同時(shí)由于其通過控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結(jié)合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜。

設(shè)計(jì)特色：

本設(shè)備配有兩個(gè)多弧靶，分置于腔體兩側(cè)。配合行星式樣品臺(tái)可有效的提高鍍膜效率，改善成效果，該鍍膜儀還采用一體化設(shè)計(jì)，腔體和電控部分左右分置，實(shí)現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。 

技術(shù)參數(shù)：