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半導(dǎo)體薄膜電子束蒸發(fā)鍍膜儀，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料

本產(chǎn)品為桌面型石英腔體小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍

本產(chǎn)品為桌面型熱蒸發(fā)鍍膜儀帶膜厚儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍

本產(chǎn)品為專為高真空設(shè)計的桌面型不銹鋼腔體蒸發(fā)鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍

熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀在蒸發(fā)過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出

CY-EVZ254-II-HH-SS 電阻蒸發(fā)鍍膜儀，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍